ナノ結晶合金VITROPERM
詳細
化学組成
合金 | Fe | Ni | Co | Cu | Nb | Si | B | 単位 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
VITROPERM 220 | Bal. (66.4) | 11.6 | 8.1 | 1.0 | 5.3 | 5.9 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (60.5) | 10.1 | 7.0 | 0.8 | 2.9 | 10.7 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 250 | Bal. (74.2) | 11.6 | - | 1.0 | 5.3 | 6.2 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (67.2) | 10.0 | - | 0.8 | 2.9 | 11.2 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 270 | Bal. (79.7) | 5.8 | - | 1.0 | 5.4 | 6.4 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (71.8) | 5.0 | - | 0.8 | 2.9 | 11.5 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 400 | Bal. (84.5) | - | - | 1.8 | 5.2 | 7.6 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (75.2) | - | - | 0.8 | 2.8 | 13.4 | 7.8 | at.-% | |
VITROPERM 500/800 | Bal. (82.8) | - | - | 1.3 | 5.6 | 8.8 | 1.5 | wt.-% |
Bal. (73.6) | - | - | 1.0 | 3.0 | 15.1 | 6.9 | at.-% |
VITROPERM の各種グレード
VITROPERM 220, VITROPERM 250, VITROPERM 270
- 小さい磁歪 (6 ~ 11 ppm – 合金による)
- 横磁場でのアニーリングにより平坦なヒステリシスループおよび低い透磁率を有する (1,800 ~ 5,100 – 合金による)
VITROPERM 400
- 非常jに小さい磁歪 (3 ~ 5 ppm) および高い飽和磁束密度 (1.3 T)を有する合金
- 通常、磁場無しでのアニーリングによりラウンドヒステリシスループおよび最高の透磁率 µmax (< 800,000)を有する
VITROPERM 500, VITROPERM 800
- 適切なアニーリングにより磁歪ゼロ
- 非常に高い汎用性 (適切なアニーリングによりR-, Z- and F-型ループが可能)
- 14 µmまでの薄い厚みおよび磁歪ゼロによる非常に低い損失
- 調整範囲の広い透磁率 (typ. 20,000 ~ 200,000, 特殊な処理により 400 ~ 2,000)
化学組成
合金 | Fe | Ni | Co | Cu | Nb | Si | B | 単位 |
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VITROPERM 220 | Bal. (66.4) | 11.6 | 8.1 | 1.0 | 5.3 | 5.9 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (60.5) | 10.1 | 7.0 | 0.8 | 2.9 | 10.7 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 250 | Bal. (74.2) | 11.6 | - | 1.0 | 5.3 | 6.2 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (67.2) | 10.0 | - | 0.8 | 2.9 | 11.2 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 270 | Bal. (79.7) | 5.8 | - | 1.0 | 5.4 | 6.4 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (71.8) | 5.0 | - | 0.8 | 2.9 | 11.5 | 8.0 | at.-% | |
VITROPERM 400 | Bal. (84.5) | - | - | 1.8 | 5.2 | 7.6 | 1.7 | wt.-% |
Bal. (75.2) | - | - | 0.8 | 2.8 | 13.4 | 7.8 | at.-% | |
VITROPERM 500/800 | Bal. (82.8) | - | - | 1.3 | 5.6 | 8.8 | 1.5 | wt.-% |
Bal. (73.6) | - | - | 1.0 | 3.0 | 15.1 | 6.9 | at.-% |
VITROPERM の各種グレード
VITROPERM 220, VITROPERM 250, VITROPERM 270
- 小さい磁歪 (6 ~ 11 ppm – 合金による)
- 横磁場でのアニーリングにより平坦なヒステリシスループおよび低い透磁率を有する (1,800 ~ 5,100 – 合金による)
VITROPERM 400
- 非常jに小さい磁歪 (3 ~ 5 ppm) および高い飽和磁束密度 (1.3 T)を有する合金
- 通常、磁場無しでのアニーリングによりラウンドヒステリシスループおよび最高の透磁率 µmax (< 800,000)を有する
VITROPERM 500, VITROPERM 800
- 適切なアニーリングにより磁歪ゼロ
- 非常に高い汎用性 (適切なアニーリングによりR-, Z- and F-型ループが可能)
- 14 µmまでの薄い厚みおよび磁歪ゼロによる非常に低い損失
- 調整範囲の広い透磁率 (typ. 20,000 ~ 200,000, 特殊な処理により 400 ~ 2,000)
合金 | 飽和分極 JS [T] |
透磁率 µ |
DC 保磁力 HC [A/m] |
飽和磁歪 λS [ppm] |
損失 ρ [W/kg] |
キュリー温度 TC [°C] |
条件 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
VITROPERM 220 | 1.24 | 1,800 - 2,400 | <5 | 10 - 11 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 250 | 1.24 | 2,800 - 4,000 | <3 | 8 - 9 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 270 | 1.21 | 4,700 - 5,100 | <3 | 6 - 7 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 400 | 1.30 | µ (0.2 A/m) ˜80,000 |
<1 | 3 - 5 | ≤70 (@100 kHz, 0.2T) |
600 | annealing without field / R annealed |
µ (0.4 A/m) >200,000 |
|||||||
µmax ˜500,000 | |||||||
VITROPERM 500/800 | 1.24 | 20,000 - 200,000 | <0.5 | ˜0 (IλSI < 0.5) | ≤80 (@100 kHz, 0.3 T, F) |
600 | transverse field annealing / F annealed |
µmax ˜600,000 | <1 | 0.03 (@50 Hz, 1.0 T, R) |
annealing without field / R annealed | ||||
400 - 2,000 | stress annealed | ||||||
400 - 4,000 | breaking after lamination / R annealed |
合金 | 厚さ t [µm] |
質量密度 アモルファス ρ [g/cm3] |
質量密度 ナノ結晶 ρ [g/cm3] |
電気抵抗率 ρel [µΩm] |
|
ヤング率 E [GPa] |
|
結晶化温度 TC [°C] |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
VITROPERM 220 | 20 ±3 | 7.42 | 7.62 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 460 |
VITROPERM 250 | 20 ±3 | 7.35 | 7.55 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 480 |
VITROPERM 270 | 18 ±3 | 7.30 | 7.50 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 480 |
VITROPERM 400 | 18 ±3 | 7.20 | 7.39 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 495 |
VITROPERM 500/800 | 18 ±3 | 7.17 | 7.35 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 510 |
17 ±2 | ||||||||
16 ±2 | ||||||||
14 ±2 |
合金 | 飽和分極 JS [T] |
透磁率 µ |
DC 保磁力 HC [A/m] |
飽和磁歪 λS [ppm] |
損失 ρ [W/kg] |
キュリー温度 TC [°C] |
条件 |
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VITROPERM 220 | 1.24 | 1,800 - 2,400 | <5 | 10 - 11 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 250 | 1.24 | 2,800 - 4,000 | <3 | 8 - 9 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 270 | 1.21 | 4,700 - 5,100 | <3 | 6 - 7 | - | 600 | transverse field annealing / F annealed |
VITROPERM 400 | 1.30 | µ (0.2 A/m) ˜80,000 |
<1 | 3 - 5 | ≤70 (@100 kHz, 0.2T) |
600 | annealing without field / R annealed |
µ (0.4 A/m) >200,000 |
|||||||
µmax ˜500,000 | |||||||
VITROPERM 500/800 | 1.24 | 20,000 - 200,000 | <0.5 | ˜0 (IλSI < 0.5) | ≤80 (@100 kHz, 0.3 T, F) |
600 | transverse field annealing / F annealed |
µmax ˜600,000 | <1 | 0.03 (@50 Hz, 1.0 T, R) |
annealing without field / R annealed | ||||
400 - 2,000 | stress annealed | ||||||
400 - 4,000 | breaking after lamination / R annealed |
合金 | 厚さ t [µm] |
質量密度 アモルファス ρ [g/cm3] |
質量密度 ナノ結晶 ρ [g/cm3] |
電気抵抗率 ρel [µΩm] |
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ヤング率 E [GPa] |
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結晶化温度 TC [°C] |
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VITROPERM 220 | 20 ±3 | 7.42 | 7.62 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 460 |
VITROPERM 250 | 20 ±3 | 7.35 | 7.55 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 480 |
VITROPERM 270 | 18 ±3 | 7.30 | 7.50 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 480 |
VITROPERM 400 | 18 ±3 | 7.20 | 7.39 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 495 |
VITROPERM 500/800 | 18 ±3 | 7.17 | 7.35 | 1.15 | 8 | 150 | 1000 | 510 |
17 ±2 | ||||||||
16 ±2 | ||||||||
14 ±2 |
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